RTA设备结构和原理
快速热处理（Rapid Thermal Processing）
■ RTA：Rapid Thermal Annealing 快速热退火；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ RTO：Rapid Thermal Oxidation 快速热氧化主要用于生长薄绝缘层；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ RTCVD：Rapid Thermal CVD 主要用于amorphous silicon，polysilicon tungsten，silicon dioxide，以及silicon nitride；
■ RTN：Rapid Thermal Nitridation 快速热氧化快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
RTP定义快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ RTP主要是利用热能，将物体内产生内应力的一些缺陷加以消除，为了使RTP的升温速度快且均匀，RTP反应室的周围均为加热器所包围，然后籍着加热器所释放的辐射，来进行RTP反映室的加热。当热处理时，这些加热灯管能以每秒100℃以上的升温速度，在数秒内，将RTP反应室内的晶片加热到工艺所需的温度，待热处理阶段完毕后（约数十秒），RTP反应室再从高温降为原来的温度。快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
RTP的核心技术快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 热源与腔（chamber）的设计；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 温度的测量；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 温度的控制；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
快速热处理过程中两个最为关键的要点是：快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
精确地温度测量与控制；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
温度的均匀分布。快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
RTA主要应用快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 离子注入退火：离子注入杂质电激活率高，彻底消除注入损伤；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 高浓度浅PN结制造；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 自对准难熔金属硅化物现成（SALICIDE）；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 磷硅或硼磷硅玻璃回流（REFLOW）；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 薄氧化层快速氧化（RTN）；快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
■ 半导体片热消除。快速退火、RTP、RTA，快速退火炉RTP，快速退火炉RTA
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量伙半导体设备（上海）有限公司成立于2018年，位于上海市浦东新区，公司专注于半导体芯片设备的研发、生产和销售。
目前我司自主研发的快速退火炉RTP设备已具备国内领先的技术水平，在研究所、芯片生产企业得到了广泛应用。
